感应真空等离子喷涂 （VPS IC）

多功能热喷涂是在低压惰性无氧化气体氛围内进行的，可以提供高质量、可靠而耐用的涂层。整个工艺过程在真空室内进行。在工艺开始前，真空室由真空泵系统抽真空，到0.08mbar压力水平。这确保工作室内的氧气和水蒸气含量水平极低，在60-300mbar的惰性气体氛围下，可以制得无氧化的致密涂层。等离子气体选用氩气或氩气/氢气或者氩气/氢气/氦气。该设备没有电极，是通过一个感应线圈电离。等离子气流是层流状的，出口速度较小。与直流等离子喷涂相反，RF等离子喷涂的涂层粉末采用轴向注入的方式。这样，更多热量转换到喷涂粉末。

此方式也能够加工难熔材料，例如，钨，并生成十分致密的涂层。

工艺特征:

等离子喷涂工艺足以融化诸如钨的难熔材料。该等离子喷涂没有电极，所以就不存在电极消耗产生的污染。轴向送粉生成非常厚且密的涂层。由于喷枪是静止的，所以基体必须在喷束内移动。

典型应用:

高科技涂层：厚且密的钨涂层，例如，旋转阳极X射线或高功率接头。