Vielseitigstes elektrodenfreies thermisches Spritzverfahren für höchste Qualität, Zuverlässigkeit und Dauerhaftigkeit unter Ausschluss von Sauerstoff in Niederdruck- Innertgasatmosphäre.
Der Prozess wird in der Regel einer Vakuumkammer durchgeführt. Die Vakuumkammer wird vor dem Prozessbeginn auf ein Druckniveau von min. 0.08mbar über ein Pumpensystem evakuiert. Damit wird sichergestellt, dass Restsauerstoff oder der Kammer anhaftender Wasserdampf die hochreine Gasatmosphäre beim anschliessenden Prozess nicht negativ beeinflussen und oxidfreie und dichte Schichten bei einem Arbeitsdruck zwischen 200-400mbar unter Innertgas appliziert werden können.
Das Plasmagas Ar, Ar/H2, Ar/H2/He wird dabei elektrodenfrei durch eine HF Spule ionisiert. Der Plasmastrahl ist sehr laminar und besitzt eine deutlich kleinere Austrittsgeschwindigkeit wie das beim DC Plasma der Fall ist.
Entgegen dem DC-Plasmaspritzen, wird beim HF Plasmaspritzen das Beschichtungspulver Axial in den stationären Brenner eingebracht, was einen deutlich besseren Wärmeeintrag in das Spritzpulver mit sich bringt. Dadurch lassen sich auch hochschmelzende Materialien wie Wolfram verarbeiten und sehr dichte Schichten erzeugen.
Prozessgrundlagen:
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Wärmequelle |
Induktiv erzeugtes Plasma |
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Partikelgeschwindigkeit |
bis zu 10-50 m/s |
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Spritzleistung |
4 bis 8 kg/h |
Prozessmerkmale
Typische Applikationen
Hi-Techbeschichtungen: Sehr dichte Wolframschichten zum Beispiel für Röntgendrehanoden oder Hochleistungskontakte
